介绍： XX知识产权人才基地建设项目占地面积1900平方米，为一栋单体建筑，单体建筑面积约为39322.5平方米，单跨最大跨度为20.3 米，最大建筑高度约70.85米。其中主楼为地上15层，副楼分别为地上3层和7层，建筑面积27527.3平方米；地下2层，建筑面积11795.2平方米；主楼和副楼共用地下室，基坑开挖深度8.9~11.3m。 十五层知识产权人才基地电气施工图纸，包括：电力电信工程规划图、高压系统图、低压配电系统图、竖向干线系統图、配电箱系统图、配电平面图、照明平面图、电房平面布置图、防雷大样图、基础接地平面图、防雷平面图、总平面图等
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