介绍： 一家台湾半导体厂使用Liqui -Cel 膜组件去除他们的超纯水（超纯水）系统溶解气体。超纯水系统用于芯片厂的化学机械抛光（CMP）的工艺用水。该水系统的台湾的UPT设计和建造。 供水系统有两个脱气阶段。第一阶段从水中去除二氧化碳和氧气，第二阶段的抛光系统中把溶解氧降到<5 ppb。
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