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衬底温度对MoCVD法沉积ZnO透明导电薄膜的影响

  • 资料大小:692 KB
  • 运行环境:NT/2000/XP/2003/Vista
  • 资料语言:简体中文
  • 资料评级
  • 授权形式:资料共享
  • 更新时间:2011-07-28 02:34
  • 发布作者:锋1234
  • 插件情况 无插件,请放心使用
  • 文件类型 RAR
  • 解压密码:civilcn.com
  • 安全检测 瑞星 江民 卡巴斯基 金山
介绍: 研究了衬底温度对MOCVD技术制备的ZnO薄膜的微观结构和光电特性影响.XRD和SEM的研究结果表明,衬底温度对ZnO薄膜的微观结构有显著影响,明显的形貌转变温度大约发生在175 6C,低于175。C,薄膜呈镜面结构,晶粒为球状,高于177℃的较高温度范围,薄膜从“类金字塔”状的绒面结构演化为“岩石”状显微组织;随着温度增加,薄膜的晶粒尺寸明显增大.绒面结构的未掺杂ZnO薄膜具有17.96 em2,V·8的高迁移率和3.28×10。2 Q·cm的低电阻率,对ZnO薄膜的进一步掺杂和结构优化有望应用于si薄膜太阳电池的前电极.
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衬底温度对MoCVD法沉积ZnO透明导电薄膜的影响
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